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第二百九十九章 摩爾定律你听說過沒有

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作品︰滄海揚帆 | 作者︰齊橙


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    08實驗室正在研制的光刻膠,也是國家半導體後備技術的一部分。www.biquge85.com

    在這個時期,光刻膠並不屬于國外向中國禁售的產品。國際上生產光刻膠的廠商眾多,國內的半導體企業能夠輕而易舉地買到各種光刻膠,而且價格也並不昂貴。

    然而,國家卻依然向楓林研究所下達了研制光刻膠的任務,其目的就是為了萬一遭遇到國外的封鎖,國內自己也能夠提供出合用的光刻膠,確保少數關系國家安全的集成電路的生產不受影響。

    所有的人都知道,國內自己研制的光刻膠生產成本會遠遠高于進口產品,質量則是遠遠不及,在市場上是絕對沒有競爭力的。

    但是,當事關國家生死存亡的時候,這些問題還有必要考慮嗎?

    楓林研究所研究的許多技術,都具有這樣的特征。相比西方國家而言,這些技術平均要落後一至兩代,即使送給別人,人家也不屑一顧。

    可這並不意味著楓林研究所的保密制度就是多余的。保密的目的在于讓對手不清楚我們的研究進度到了哪一步,無論對方高估或者低估了我們的水平,都會在戰場博弈或者經濟博弈中犯下一些或大或小的錯誤,而這些錯誤,可能就會成為我們的機會。

    這是弱者的一種生存策略。

    高凡對于國家的整體策略並不十分了解,但在他從雲中明那里听到“光致抗蝕劑”這個詞的時候,他就產生出了一個念頭︰

    或許,自己能夠做一些事情。

    “徐師兄,我听畢主任說,你們正在研究的是g線光刻膠。對于i線以及KrF光刻膠,你們有沒有涉及?”高凡問道。

    他說的畢主任,叫畢連生,是08實驗室的室主任,一位不苟言笑的中年知識分子。

    光刻技術,按照使用的光源不同,可以分為許多類,或者稱為不同代際也可以。

    上世紀60年代,光刻技術剛剛出現的時候,使用的是普通的可見光光源,那時候的光刻機其實就是拿一個大燈泡照射掩膜板,和照相館里沖洗照片沒啥區別。

    80年代,光源進化為采用高壓放電汞燈產生的436納米和365納米光源,前者稱為g線光源,後者稱為i線光源,都屬于近紫外光源。

    90年代之後,出現了使用準分子激光器的248納米、193納米和157納米光源,分別稱為KrF、arF和F2光源,屬于深紫外光源。

    再至于被譽為“皇冠上的明珠”的euV光刻機,使用的是3納米的極紫外光源,它的出現時間已經要算到2010年之後了。

    時下,g線光源還是集成電路制造中使用的主流光源。i線光源光刻機已經問世,但還沒有得到大規模推廣。至于KrF,實驗室概念已經提出來了,真正投入使用,還得是十年後的事情。

    光刻的原理,與沖洗照片是一樣的。首先,要把電路圖制作成底片,稱為掩膜。光源通過掩膜照射在涂了光刻膠的芯片基材上。

    光刻膠由樹脂、感光劑、溶劑和添加劑組成,其中的感光劑在光線照射下會發生反應,使曝光區的光刻膠溶解,這就相當于把掩膜上的電路圖案復制到了芯片基材上。

    隨後,再進行蝕刻、離子注入、封裝等操作,一枚芯片就制作完成了。

    光刻膠中感光劑的選擇,與光源是密切相關的,這涉及到化合物在不同波長光線作用下的變化,機理十分復雜。

    徐雲是知道這些概念的。他原本就是物理系的學生,楓林研究所聘請他的老師前來參與這個項目,就是因為其中涉及到一些光學方面的問題。他在項目組里耳濡目染了這麼久,對于這些問題自然是非常了解的。

    听到高凡的問題,徐雲也只能把心里那些雜念拋開,認真地答道︰“我們現在研究的重點,就是g線光刻膠,這也是目前應用最廣泛的。

    “i線光刻膠這方面,畢主任在實驗室會議上提過幾次,讓大家有時間做一些積累,不過目前條件還不成熟。再至于說KrF光刻膠,好像國外也剛剛開始研究吧?”

    “你說i線光刻膠的條件不成熟,是指什麼?”高凡問道。

    徐雲道︰“不是我說的,而是畢主任說的。現在國內根本就沒有使用i線光源的光刻機,國外也不多,研究i線光刻膠,是不是有些操之過急了?”

    “我想跟你說的,就是這個。”高凡說,“對了,徐師兄,摩爾定律你听說過沒有?”

    “當然听說過。”徐雲不忿地說,“不就是集成電路上的晶體管數量,每兩年就增加一倍嗎?我們好幾個老師上課的時候都提過。”

    “不愧是科大,思維很前衛。”高凡翹個大拇指,贊了一句,卻換來了徐雲一個白眼。

    摩爾定律是1965年提出的,不過直到70年代中期才受到人們的重視。隨著集成電路技術的迅猛發展,摩爾定律一再得到印證,一時間在西方科技界和產業界倍受推崇。

    此時的中國,在全球半導體市場上完全是小透明,根本不具備評論半導體產業發展的資格,因此也就沒什麼人會關注和提及摩爾定律。

    徐雲說他有好幾位老師上課時候都提過摩爾定律,高凡自然是要表示欽佩的。只是以他的身份,擺出這樣一副嘴臉來夸獎中科大,徐雲怎麼能不對他表示一番鄙夷。

    “既然你知道摩爾定律,那麼你想想看,芯片制造技術將會以什麼樣的速度發展?g線光刻機肯定很快就會落伍,下一代i線光刻機會迅速普及。不出十年,市場主流就會是KrF光刻機。”高凡侃侃而談。

    徐雲在心里默想了一下,點點頭道︰“你說得有理,不過,這也是國際市場的潮流吧?咱們國內現在連g線光刻機都沒能掌握,你說的KrF,怎麼也得是20年以後的事情了。”

    “我們為什麼就不能瞄準國際市場呢?”高凡看著徐雲,“造光刻機,需要高精密機床,咱們一時造不出來。可是光刻膠的技術沒多高的門檻,咱們為什麼不能提前一步佔領這個市場呢?”
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